Ag Paste
질화알루미늄 (Aluminum Nitride, AlN) 기판은 기존의 알루미나 기판 대비 우수한 방열특성으로 인하여, power 부품, UV-LED, 전기차용 기판, 고주파 네트워크 부품 등에 적용되고 있다.
AlN 기판 상에 도체 배선을 형성시키는 방법으로는 DBC, DPC, AMB 등 다양한 방법이 있으나 후막 도체 형성용 페이스트를 직접 인쇄하는 방식은 공정비가 적게 들고 신뢰성이 우수하다는 장점을 갖는다.
기존의 알루미나 기판 배선 형성용 은 페이스트는 비스무스계 글라스를 주로 사용하여 인쇄면 접착강도의 구현이 가능하다. 하지만, 동일한 페이스트를 AlN 기판 상에 인쇄하여 소성할 경우, AlN 표면 수산기의 부재로 인한 결합강도의 저하, 열팽창계수 차이 및 AlN 고온 산화에 의한 가스 발생 등으로 인한 블리스터 발생으로 인하여 우수한 접착강도 구현이 매우 어려워질 수 있다.
FSP-K05는 AlN 기판 전극라인 형성용 은 페이스트로서, AlN 기판 상에서 인쇄되어 소성할 경우에도 블리스터 발생이 억제되어 우수한 접착강도 구현이 가능하다. 또한 인쇄 레벨링성이 우수하고 전기전도도가 우수하며, 도금성이 우수한 장점을 갖는다.
AlN 기판 상에 도체 배선을 형성시키는 방법으로는 DBC, DPC, AMB 등 다양한 방법이 있으나 후막 도체 형성용 페이스트를 직접 인쇄하는 방식은 공정비가 적게 들고 신뢰성이 우수하다는 장점을 갖는다.
기존의 알루미나 기판 배선 형성용 은 페이스트는 비스무스계 글라스를 주로 사용하여 인쇄면 접착강도의 구현이 가능하다. 하지만, 동일한 페이스트를 AlN 기판 상에 인쇄하여 소성할 경우, AlN 표면 수산기의 부재로 인한 결합강도의 저하, 열팽창계수 차이 및 AlN 고온 산화에 의한 가스 발생 등으로 인한 블리스터 발생으로 인하여 우수한 접착강도 구현이 매우 어려워질 수 있다.
FSP-K05는 AlN 기판 전극라인 형성용 은 페이스트로서, AlN 기판 상에서 인쇄되어 소성할 경우에도 블리스터 발생이 억제되어 우수한 접착강도 구현이 가능하다. 또한 인쇄 레벨링성이 우수하고 전기전도도가 우수하며, 도금성이 우수한 장점을 갖는다.
(a) Ref. Ag paste showing blister (after 850℃ firing and plating) |
(b) FSP-K05 (after 850℃ firing and plating) |
WRC-005 |
|
Silver content |
79.5 ± 0.5 wt% |
Viscosity |
200 ± 30 Pa∙s |
Resistivity (after 850℃ firing) |
< 3.5 x 10-6 Ohm∙cm |
Adhesion strength (pull test after soldering) |
> 45 N |